用于光子封裝的雙光子光刻
雙光子光刻(TPL)是一種基于激光的技術(shù),可用于創(chuàng)建具有非常高分辨率的3D結(jié)構(gòu)。
光子集成電路(PIC)是將多個(gè)光學(xué)組件組合在單個(gè)芯片上的緊湊型器件。它們?cè)谕ㄐ拧y(cè)距、傳感、計(jì)算、光譜學(xué)和量子技術(shù)方面有著廣泛的應(yīng)用。PICs現(xiàn)在使用成熟的半導(dǎo)體制造技術(shù)制造。它降低了成本并提高了性能。這使得PICs成為一種有前景的技術(shù),適用于各種應(yīng)用。 光子封裝比電子封裝更具挑戰(zhàn)性。PICs需要高得多的對(duì)準(zhǔn)精度,通常在微米甚至亞微米級(jí)別。這是因?yàn)镻IC的光學(xué)模式需要精確匹配。 PICs的緊密對(duì)準(zhǔn)公差使其與主流電子封裝技術(shù)和基礎(chǔ)設(shè)施不兼容。此外,對(duì)多種材料平臺(tái)(如硅III-V和鈮酸鋰)的異質(zhì)或混合集成的需求不斷增加,這是光子封裝的另一個(gè)挑戰(zhàn)。需要新的封裝技術(shù)和設(shè)備體系結(jié)構(gòu)來(lái)應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)。 在《光:先進(jìn)制造》雜志上發(fā)表的一篇新論文中,由Shaoliang Yu博士和Qingyang Du領(lǐng)導(dǎo)的一個(gè)科學(xué)家團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)了新的包裝技術(shù)。 雙光子光刻(TPL)是一種基于激光的技術(shù),可用于創(chuàng)建具有非常高分辨率的3D結(jié)構(gòu)。它最近成為一種很有前途的光子封裝方法,即將光子組件組裝和連接到單個(gè)系統(tǒng)中的過(guò)程。 TPL為光子封裝提供了幾個(gè)獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。TPL可用于創(chuàng)建各種3D光子結(jié)構(gòu),例如光束整形器和模式轉(zhuǎn)換器。當(dāng)連接系統(tǒng)中的不同光學(xué)部件時(shí),這對(duì)于實(shí)現(xiàn)高耦合效率和寬帶寬是重要的。 它還可以在組裝后在光子組件之間形成光學(xué)連接。這是因?yàn)榭梢愿鶕?jù)部件之間的相對(duì)位移來(lái)定制連接的形狀。這放松了PIC組裝過(guò)程中的對(duì)準(zhǔn)公差,并允許使用標(biāo)準(zhǔn)電子組裝技術(shù)。 TPL可以創(chuàng)建高信道密度、低損耗的2.5-D或3D鏈路,以適應(yīng)封裝內(nèi)光學(xué)端口之間的高度差。這對(duì)于混合集成尤其重要,在混合集成中,模塊被圖案化在具有不同厚度的不同基板上。 TPL可用于形成微米和納米機(jī)械結(jié)構(gòu),以引導(dǎo)無(wú)源對(duì)準(zhǔn)過(guò)程或可插拔光學(xué)連接器中的精確組件放置。 除了這些優(yōu)點(diǎn)之外,TPL樹(shù)脂通常具有寬帶和低光衰減,使其適用于在不同材料平臺(tái)之間構(gòu)建低損耗光學(xué)鏈路。 總的來(lái)說(shuō),TPL是一種多功能、強(qiáng)大的光子封裝技術(shù)。它提供了幾個(gè)獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),有助于解決封裝PIC的挑戰(zhàn),例如緊密對(duì)準(zhǔn)公差和異構(gòu)或混合集成的需求。隨著光子學(xué)行業(yè)越來(lái)越多地采用TPL,正在進(jìn)行進(jìn)一步的研發(fā)工作,以提高TPL的生產(chǎn)能力,擴(kuò)大材料庫(kù),并開(kāi)發(fā)新的設(shè)計(jì)和表征工具。 相關(guān)鏈接:https://phys.org/news/2023-11-two-photon-lithography-photonic-packaging-solution.html |
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