上海微電子“投影物鏡光學系統及光刻機”專利公布
提供了一種投影物鏡光學系統及光刻機，所述投影物鏡光學系統沿其光軸方向從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。
 11月28日，上海微電子裝備（集團）股份有限公司公開了其最新的光刻機相關專利。 據天眼查顯示，上海微電子公開的專利名為“投影物鏡光學系統及光刻機”。申請日期是2022年5月19日，公布日期是​2023年11月28日。  天眼查專利頁面截圖 該專利摘要顯示，本發(fā)明提供了一種投影物鏡光學系統及光刻機，所述投影物鏡光學系統沿其光軸方向從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。 其中，所述第三透鏡組與所述第二透鏡組關于所述光闌對稱，所述第四透鏡組與所述第一透鏡組關于所述光闌對稱，所述投影物鏡光學系統是對稱結構，且所述投影物鏡光學系統中所有的透鏡組均具有正光焦度，以此可以在提高成像質量的基礎上，增大曝光系統的視場尺寸，提升產率。  投影物鏡光學系統結構圖 |
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