從真空鍍膜原理、設(shè)計(jì)到工藝
本課程會從多個方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。
1.7 文件位置 1.8 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) 1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語的定義 1.10厚度(物理厚度,光學(xué)厚度[FWOT,QWOT],幾何厚度) 1.11 單位定義 1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值 1.13 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 1.14 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù) 1.15 交互式繪圖 2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) 2.1 介質(zhì)和波 2.2 垂直入射時的界面和薄膜特性計(jì)算 2.3 傾斜入射時的界面和薄膜特性計(jì)算 2.4 后表面對光學(xué)薄膜特性的影響 2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 3. 理論技術(shù) 3.1 參考波長與g 3.2 四分之一規(guī)則 3.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 3.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納 3.5 對稱周期 4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì) 4.1 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 4.2 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)中的一些實(shí)際問題 4.3 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技巧 4.4 特殊光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)方法 4.5 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能 4.5.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 4.5.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法) 4.5.3 膜層鎖定和鏈接 5. 常規(guī)光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析 5.1 減反射薄膜 5.2 分光膜 5.3 高反射膜 5.4 干涉截止濾光片 5.5 窄帶濾光片 5.6 負(fù)濾光片 5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 |
1.行業(yè)新聞、市場分析。 2.新品新技術(shù)(最新研發(fā)出來的產(chǎn)品技術(shù)介紹,包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片); 3.解決方案/專業(yè)論文(針對問題及需求,提出一個解決問題的執(zhí)行方案); 4.技術(shù)文章、白皮書,光學(xué)軟件運(yùn)用技術(shù)(光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔);
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