時間地點：

主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司（微信公眾號：infotek）；常熟黌論教育咨詢有限公司（微信公眾號：honglun-seminary）

授課時間：11月13（三）-14（四） AM 9:00-PM 16:00

授課地點：上海市普陀區(qū)武威路88弄中鑫企業(yè)廣場21號樓A座2樓（黌論上海培訓室）

課程講師：訊技光電高級工程師

課程費用：3600RMB（包含課程材料費、開票稅金、午餐費用）

課程簡介：

大視場、高分辨率機載紫外-可見光成像光譜儀對獲得對流層示蹤氣體總量，從未監(jiān)測對流層污染現(xiàn)象至關重要。本課程基于機載紫外-可見光成像光譜儀的特殊性和實際應用要求，提出采用面陣CCD的擺掃式成像光譜儀，能夠滿足大視場、寬譜段、高分辨率成像光譜儀的應用要求。本設計光譜儀的波長范圍為200-500nm,光譜成像系統(tǒng)采用分波段分系統(tǒng)的方式獨立進行光譜成像，200-310、310-500nm采用CT光柵光譜儀成像。

示例圖

課程大綱：

當在復雜的光照環(huán)境內使用的時候，攝影攝像鏡頭都受到雜散光的影響。所謂雜散光就是那些不是按照鏡頭設計師設想的路徑在鏡頭內傳播的光線。作為一個設計完善制造完美的鏡頭，應該不受雜散光影響的：問題在于世界上沒有完美的鏡頭，任何實際制造的鏡頭都會存在雜散光的影響，不受雜散光影響的鏡頭只存在于紙面上。

本專場討論了基于單反射相機的光學設計、雜散光和表面粗糙度的要求和光機設計，包括;

□ 關鍵物體的識別

□ 預估雜散光背景

□ 離軸抑制特性

□ 鬼像的形成