對(duì)于每個(gè)結(jié)構(gòu)來說：

□ 結(jié)構(gòu)1：追跡了晶體1中的尋常光和晶體2中的尋常光

□ 結(jié)構(gòu)2：追跡了晶體1中的尋常光和晶體2中的非尋常光

□ 結(jié)構(gòu)3：追跡了晶體1中的非尋常光和晶體2中的尋常光

□ 結(jié)構(gòu)4：追跡了晶體1中的非尋常光和晶體2中的非尋常光

之后我們需要將各個(gè)結(jié)構(gòu)的場振幅 (field amplitudes) 疊加在一起，而不是強(qiáng)度疊加在一起。這一點(diǎn)非常關(guān)鍵，我們將在下一節(jié)中詳細(xì)討論。

計(jì)算消光比

在本節(jié)使用的示例文件中我們可以看到，第二塊晶體的非尋常折射率使光線在晶體與晶體的交界面發(fā)生了偏折。在第一塊晶體中，光軸方向與局部Z軸一致，因此不同偏振態(tài)光線的折射率相同。需要注意的是，在雙折射介質(zhì)中S偏振所在的平面與晶軸垂直，P偏振所在平面與晶軸平行。因此當(dāng)光線沿晶軸方向入射時(shí)，兩偏振態(tài)的光無法區(qū)分。在第二塊晶體中，晶軸方向與局部X軸重合，S偏振態(tài)仍然與晶軸方向垂直，P偏振態(tài)與晶軸平行。此時(shí)兩種偏振態(tài)的光可以被區(qū)分開來，因此Y方向上的偏振光在晶體與晶體的交界面上會(huì)產(chǎn)生偏折。

在本例中，結(jié)構(gòu)1和3（均追跡晶體2中的尋常光線）的光線不發(fā)生偏折，而結(jié)構(gòu)2和4的光線發(fā)生雙折射偏折。

假設(shè)我們需要計(jì)算偏振光的消光比。如果通過實(shí)驗(yàn)的方法進(jìn)行測量，我們需要使用Y方向偏振的光入射偏振器并測量透過的光強(qiáng)，再計(jì)算X方向的偏振光透過的光強(qiáng)并計(jì)算兩者之比。實(shí)際上這也是OpticStudio計(jì)算消光比的方式。唯一復(fù)雜的點(diǎn)在于透過的光強(qiáng)為兩個(gè)結(jié)構(gòu)的相干疊加。因此我們需要先計(jì)算場振幅的疊加再計(jì)算光強(qiáng)。最簡便的方法是使用ZPL宏來完成這一計(jì)算過程。

以下是我們需要用到的宏語言關(guān)鍵詞（完整的語法請(qǐng)參考用戶手冊(cè)）

POLDEFINE Ex, Ey, PhaX, PhaY：用來定義光線的起始偏振態(tài)

POLTRACE Hx, Hy, Px, Py, wavelength, vec, surf：用來對(duì)特定的光線在特定的表面上執(zhí)行偏振光線追跡，并將追跡結(jié)果保存在參數(shù)vec定義的數(shù)組中。數(shù)據(jù)保存格式如下所示：