其中Ex, Ey, Ez均為復(fù)值。電場向量E必須垂直于光線傳播的方向向量。在兩種介質(zhì)的邊界處，透過率、反射率和電場的相位在P分量和S分量上各不相同。電場的S分量為E在與入射平面垂直的光軸方向上的分量，P分量為E在入射平面上的分量。入射平面包含光線傳播向量和表面在入射點處的法向量。需要注意的是：光線在垂直表面入射時，該定義方式會變得模糊。

因此我們可以看出，P和S偏振態(tài)的定義與表面相關(guān)。如果在表面上添加了鍍膜，則光線透過的比例會根據(jù)系統(tǒng)設(shè)置中偏振的參考方式不同而顯著變化。

舉例來說，有限距離內(nèi)的物點發(fā)出的光穿過一個鍍膜的平面，該平面鍍膜只允許P光通過。該物點發(fā)出的光線具有初始偏振態(tài)Jx=0，Jy=1。當(dāng)參考軸在X或Y軸中變化時，P光和S光的透過率發(fā)生顯著變化。這是因為輸入的偏振態(tài)Jx和Jy在表面上分別平行于全局X軸和全局Y軸。

然而當(dāng)參考于Z軸時，Jx和Jy跟隨全局Z軸旋轉(zhuǎn)變化，因此偏振態(tài)沒有改變。

因此，在使用鍍膜改變光的偏振時，您需要注意輸入光參考軸的定義方式。

如您想進行驗證，您可以使用Ideal2或表格鍍膜(Table Coating)格式文件，對P光和S光自定義透過率的實部和虛部。這些格式的鍍膜數(shù)據(jù)可以非常有效的模擬理想偏振器。此外，您還可以使用優(yōu)化操作數(shù)CODA針對特定偏振數(shù)據(jù)對鍍膜進行優(yōu)化。

雙折射輸入/輸出

在OpticStudio中模擬雙折射材料的方法于瓊斯矩陣和表面鍍膜不同。如果想要在序列模式下定義雙折射元件，您必須在透鏡數(shù)據(jù)編輯器中定義兩個表面，即雙折射輸入表面和雙折射輸出表面。在這兩個表面定義的邊界之內(nèi)，OpticStudio會使用兩種材料，一種以雙折射材料的尋常折射率來定義，另一種以非尋常折射率定義。OpticStudio會使用雙折射輸入面型中定義的材料折射率來定義尋常折射率。隨后OpticStudio會在材料名后添加“-E”并在當(dāng)前加載的材料庫中尋找該材料，其折射率會用于定義非尋常折射率。

相比瓊斯矩陣，該種方法允許用戶計算菲涅爾系數(shù)和材料吸收以得到更加精確的透過率結(jié)果。用戶可以選擇單獨追跡尋常光和非尋常光或只追跡其中一種并考慮另一種對相位的影響。該計算類型是通過雙折射輸入/輸出中的模式 (Mode Flag) 參數(shù)來控制。更多信息請參考知識庫文章“What is The Birefringent Mode Flag For?”

https://customers.zemax.com/os/resources/learn/knowledgebase/what-is-the-birefringent-mode-flag-for