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  • 如何使用體散射模擬熒光?

    作者:Zemax China 來(lái)源:投稿 時(shí)間:2018-09-05 17:54 閱讀:7505 [投稿]
    這篇文章解釋了如何在OpticStudio非序列模式下使用體散射中的波長(zhǎng)偏移功能模擬熒光。

    概述

    這篇文章解釋了如何在OpticStudio非序列模式下使用體散射中的波長(zhǎng)偏移功能模擬熒光。

    介紹

    熒光一詞主要用來(lái)描述光被物體吸收并發(fā)射出不同波長(zhǎng)光(一般為波長(zhǎng)更長(zhǎng)的光)的過(guò)程。光線(xiàn)通常情況下也會(huì)沿不同方向發(fā)射。我們可以使用OpticStudio非序列模式下的體散射功能模擬這一過(guò)程。

    OpticStudio中自帶的示例文件 (Fluorescence Example.ZMX) 就是用來(lái)演示如何在非序列下模擬熒光物體。該文件位于Zemax > Samples > Non-sequential > Scattering文件夾中。在這個(gè)簡(jiǎn)單的系統(tǒng)中,我們使用一個(gè)橢圓光源 (Source Ellipse) 來(lái)向三維物體發(fā)射平行光,其中物體體積具有體散射屬性。每根光線(xiàn)的波長(zhǎng)為0.450μm,這是由系統(tǒng)設(shè)置中的1號(hào)波長(zhǎng)定義的。


    在本例中每條光線(xiàn)在介質(zhì)中最多只發(fā)生一次體散射,散射次數(shù)可以在非序列元件編輯器(Non-sequential Component) 光源物體的物體屬性中的光源 (Sources) 選項(xiàng)卡下光線(xiàn)追跡 (Ray Trace) 欄的體散射 (Bulk Scattering) 選項(xiàng)中進(jìn)行設(shè)置:


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