4. 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)

5. 交互式繪圖

6. 薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)：設(shè)計(jì)不同類(lèi)型薄膜

6.1 抗反射膜

6.2 短波通/長(zhǎng)波通濾波片

6.3 帶通濾波片

6.4 斜入射薄膜

6.5 優(yōu)化

6.5.1 目標(biāo)

6.5.2 方法(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)

6.5.3 鎖定和關(guān)聯(lián)膜層

6.6 包含基底影響

6.7 錐角和帶寬計(jì)算

6.8 簡(jiǎn)單的公差

6.9 顏色模型(tristimulus, chromaticity, CIE L*A*B*, CIE L*U*V*, dominant wavelength)

7. 光學(xué)常數(shù)推導(dǎo)

7.1 測(cè)量vs模型擬合

7.2 用包絡(luò)法推導(dǎo)介質(zhì)膜的光學(xué)常數(shù)

7.3 利用光譜儀的測(cè)量值計(jì)算基底的光學(xué)常數(shù)

7.4 推導(dǎo)金屬薄膜和其它吸收膜的光學(xué)常數(shù)

8. 反演工程

8.1 鍍膜過(guò)程中兩種主要的誤差（系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差）

8.2 使用反演工程來(lái)控制對(duì)設(shè)計(jì)的搜索，該設(shè)計(jì)代表實(shí)際生產(chǎn)的產(chǎn)品。

8.3 多個(gè)解問(wèn)題的探索

9. Runsheet：使用光學(xué)監(jiān)控計(jì)算沉積過(guò)程中的預(yù)期信號(hào)

9.1 簡(jiǎn)單光控的描述

9.2 Tooling Factors

9.3 Machine Configuration-指定鍍膜設(shè)備的功能

9.4 Runsheet-顯示鍍膜過(guò)程中預(yù)期的監(jiān)測(cè)信號(hào)

9.5 案例-截至濾光片

10. Report Generator

10.1 定制打印輸出

10.2 可用于控制打印輸出的指令包括：

10.2.1 頁(yè)面

10.2.2 表格

10.2.3 繪圖

10.2.4 其它文件和數(shù)據(jù)源的信息