固體圖像傳感器CMOS與CCD的區(qū)別
市場上應(yīng)用的固體圖像傳感器主要有CCD與CMOS兩種。本文從技術(shù)性能的角度、器件的內(nèi)外部結(jié)構(gòu)、原理、應(yīng)用、生產(chǎn)制造的工藝與設(shè)備等方面將兩者作比較。
目前,市場上應(yīng)用的固體圖像傳感器主要有CCD與CMOS兩種。本文從技術(shù)性能的角度、器件的內(nèi)外部結(jié)構(gòu)、原理、應(yīng)用、生產(chǎn)制造的工藝與設(shè)備等方面將兩者作比較,從目前看,兩者各有優(yōu)劣;從發(fā)展看,CMOS圖像傳感器將取代CCD而獲得比CCD更為廣泛的應(yīng)用。 固體圖像傳感器(也稱固體光電成像器件)有CCD與CMOS兩種。CCD是“電荷耦合器件”(ChargeCoupledDevice)的簡稱,而CMOS是“互補金屬氧化物半導(dǎo)體”(ComplementaryMetalOxideSemiconductor)的簡稱。CCD是1970年美國貝爾實驗室的W·B·Boyle和G·E·Smith等人發(fā)明的,從而揭開了電荷傳輸器件的序幕。此后,人們利用這一技術(shù)制造了攝像機與數(shù)碼相機,將圖像處理行業(yè)推進(jìn)到一個全新領(lǐng)域。CCD是一種用于捕捉圖像的感光半導(dǎo)體芯片,廣泛運用于掃描儀、復(fù)印機、攝像機及無膠片相機等設(shè)備。作為相機,與膠卷的原理相似,光學(xué)圖像(即實際場景)穿過鏡頭投射到CCD上。但與膠卷不同的是CCD沒有“曝光”能力,也沒有能力記錄和存貯圖像數(shù)據(jù),而是將圖像數(shù)據(jù)不停留地送入一個A/D轉(zhuǎn)換器、信號處理器與存貯設(shè)備,但可重復(fù)拍攝和即時調(diào)整,其影像可無限次復(fù)制而不降低質(zhì)量,也方便永久保存。 CMOS本來是計算機系統(tǒng)內(nèi)的一種重要芯片,它可保存系統(tǒng)引導(dǎo)所需的大量資料。在20世紀(jì)70年代初,有人發(fā)現(xiàn),將CMOS引入半導(dǎo)體光敏二極管后也可作為一種感光傳感器,但在分辨率、噪聲、功耗和成像質(zhì)量等方面都比當(dāng)時的CCD差,因而未獲得發(fā)展。隨著CMOS工藝技術(shù)的發(fā)展,采用標(biāo)準(zhǔn)的CMOS工藝能生產(chǎn)高質(zhì)量、低成本的CMOS成像器件。這種器件便于大規(guī)模生產(chǎn)、其功耗低與成本低廉的特性都是商家們夢寐以求的。如今,CCD與CMOS兩者共存,CCD暫時還是“主流”,但CMOS將取代CCD而成為圖像傳感器的主流。下面從技術(shù)性能、器件的內(nèi)外部結(jié)構(gòu)、原理、應(yīng)用、生產(chǎn)制造的工藝與設(shè)備等方面將兩者作一比較,最后歸納一比較表,并展望其發(fā)展前景。 基本結(jié)構(gòu)及工作原理對比 CCD是在MOS晶體管的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,其基本結(jié)構(gòu)是MOS(金屬—氧化物—半導(dǎo)體)電容結(jié)構(gòu)。它是在半導(dǎo)體P型硅(si)作襯底的表面上用氧化的辦法生成一層厚度約1000??1500?的SiO2,再在SiO2表面蒸鍍一層金屬(如鋁),在襯底和金屬電極間加上一個偏置電壓(稱柵電壓),就構(gòu)成了一個MOS電容器。所以,CCD是由一行行緊密排列在硅襯底上的MOS電容器陣列構(gòu)成的。 目前的CCD器件均采用光敏二極管代替過去的MOS電容器,即在P型Si襯底上擴散一個N+區(qū)域以形成P-N結(jié)二極管。通過多晶硅相對二極管反向偏置,于是在二極管中產(chǎn)生一個定向電荷區(qū)(稱之為耗盡區(qū))。在定向電荷區(qū)中,光生電子與空穴分離,光生電子被收集在空間電荷區(qū)中?臻g電荷區(qū)對帶負(fù)電的電子而言、是一個勢能特別低的區(qū)域,因此通常又稱之為勢阱。投射光產(chǎn)生的光生電荷就儲存在這個勢阱之中,勢阱能夠儲存的最大電荷量又稱之為勢阱容量,勢阱容量與所加?xùn)艍航瞥烧。光敏二極管和MOS電容器相比,光敏二極管具有靈敏度高,光譜響應(yīng)寬,藍(lán)光響應(yīng)好,暗電流小等特點。如果將一系列的MOS電容器或光敏二極管排列起來,并以兩相、三相或四相工作方式把相應(yīng)的電極并聯(lián)在一起,并在每組電極上加上一定時序的驅(qū)動脈沖,這樣就具備了CCD的基本功能。 一般,最基本的CMOS圖像傳感器是以一塊雜質(zhì)濃度較低的P型硅片作襯底,用擴散的方法在其表面制作兩個高摻雜的N+型區(qū)作為電極,即場效應(yīng)管的源極和漏極,再在硅的表面用高溫氧化的方法覆蓋一層二氧化硅(SiO2)的絕緣層,并在源極和漏極之間的絕緣層的上方蒸鍍一層金屬鋁,作為場效應(yīng)管的柵極。最后,在金屬鋁的上方放置一光電二極管,這就構(gòu)成了最基本的CMOS圖像傳感器。 為使CMOS圖像傳感器工作,必須在P型硅襯底和源極接電源負(fù)極,漏極接電源正極。當(dāng)無圖像光信號照射到光敏二極管上時,源極和漏極之間無電流通過,因此無信號輸出;當(dāng)有圖像光信號照射到光敏二極管上時,光敏元件的價帶電子獲得能量激發(fā)躍遷到導(dǎo)帶而形成圖像光電子,因而在源極和漏極之間形成電流通路而輸出圖像電信號。入射圖像光信號越強,在光敏材料中激發(fā)的導(dǎo)電粒子(電子與空穴)越多,從而使源、漏極之間的電流越大,因而輸出信號越大。所以,輸出信號的大小直接反映了入射光信號的強弱。 |
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