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光學(xué)技術(shù)
2011-09-05 22:50
光電傳感器的類型
[光學(xué)技術(shù)]
光電傳感器的類型主要有以下兩種,本文將簡(jiǎn)單介紹光電傳感器的各種類型的原理及其運(yùn)用。
2011-09-05 22:49
鏡頭結(jié)構(gòu)分類簡(jiǎn)介
[光學(xué)技術(shù)]
常用光學(xué)鏡頭諸如望遠(yuǎn)物鏡、顯微物鏡、照相物鏡和目鏡,基本結(jié)構(gòu)包括四個(gè)部分:透鏡、隔圈、鏡筒、壓圈。
2011-09-05 22:47
阿貝折射儀的使用注意事項(xiàng)
[光學(xué)技術(shù)]
阿貝折射儀是一種精密的光學(xué)儀器,使用時(shí)應(yīng)注意以下幾點(diǎn): 1.使用時(shí)要注意保護(hù)棱鏡,清洗時(shí)只能用擦鏡紙而不能用濾紙等。加試樣時(shí)不能將滴管口觸及鏡面。對(duì)于酸堿等腐蝕性液體不得使用阿貝折射儀。 2. ..
2011-09-05 22:46
阿貝折射儀的使用注意事項(xiàng)
[光學(xué)技術(shù)]
阿貝折射儀是一種精密的光學(xué)儀器,使用時(shí)應(yīng)注意以下幾點(diǎn): 1.使用時(shí)要注意保護(hù)棱鏡,清洗時(shí)只能用擦鏡紙而不能用濾紙等。加試樣時(shí)不能將滴管口觸及鏡面。對(duì)于酸堿等腐蝕性液體不得使用阿貝折射儀。 2. ..
2011-09-05 22:45
阿貝折射儀的校正和保養(yǎng)
[光學(xué)技術(shù)]
阿貝折射儀的刻度盤(pán)的標(biāo)尺零點(diǎn)有時(shí)會(huì)發(fā)生移動(dòng),須加以校正。校正的方法一般是用已知折射率的標(biāo)準(zhǔn)液體,常用純水。通過(guò)儀器測(cè)定純水的折光率,讀取數(shù)值,如同該條件下純水的標(biāo)準(zhǔn)折光率不符,調(diào)整刻度盤(pán)上的數(shù)值,直至 ..
2011-09-05 22:44
旋光儀的使用方法及注意事項(xiàng)
[光學(xué)技術(shù)]
旋光儀是測(cè)定物質(zhì)旋光度的儀器。通過(guò)對(duì)樣品旋光度的測(cè)量,可以分析確定物質(zhì)的濃度、含量及純度等。
2011-09-05 22:43
jjy型分光計(jì)構(gòu)件介紹
[光學(xué)技術(shù)]
jjy型分光計(jì)(附d=(1/300)mm的衍射光柵),汞燈光源。分光計(jì)是一種能精確測(cè)量角度的光學(xué)儀器,可以用來(lái)測(cè)量材料的折射率、色散率、光波長(zhǎng)和進(jìn)行光譜觀測(cè)等。由于該裝置比較精密,控制部件較多而且操作復(fù)雜,所以使 ..
2011-09-05 22:41
光電檢測(cè)技術(shù)的特點(diǎn)
[光學(xué)技術(shù)]
光電檢測(cè)技術(shù)的特點(diǎn)如下: 高精度 從地球到月球激光測(cè)距的精度達(dá)到1米。 高速度 光速是最快的。 遠(yuǎn)距離、大量程:遙控、遙測(cè)和遙感。 非接觸式檢測(cè) 不改變被測(cè)物體性質(zhì)的條件下進(jìn)行測(cè)量。 ..
2011-09-05 22:41
什么是光電效應(yīng)?光電效應(yīng)的分類有哪些?
[光學(xué)技術(shù)]
光照射到物體表面上使物體發(fā)射電子、或?qū)щ娐拾l(fā)生變化、或產(chǎn)生光電動(dòng)勢(shì)等,這種因光照而引起物體電學(xué)特性發(fā)生改變統(tǒng)稱為光電效應(yīng)。
2011-09-05 22:40
光熱效應(yīng)相關(guān)知識(shí)介紹
[光學(xué)技術(shù)]
光熱效應(yīng):材料受光照射后,光子能量與晶格相互作用,振動(dòng)加劇,溫度升高,材料的性質(zhì)發(fā)生變化。
2011-09-05 22:36
光刻工藝過(guò)程詳解
[光學(xué)技術(shù)]
本文介紹光刻工藝過(guò)程,供相關(guān)專業(yè)人士參考。
2011-09-05 22:34
光刻中常見(jiàn)的效應(yīng)和概念
[光學(xué)技術(shù)]
光刻中常見(jiàn)的效應(yīng)和概念介紹如下,供相關(guān)專業(yè)技術(shù)人員參考。
2011-09-05 22:23
真空在薄膜制備中的作用
[光學(xué)技術(shù)]
真空在薄膜制備中的作用主要有以下兩點(diǎn): 1.減少蒸氣分子與殘余氣體分子的碰撞 nd=noe-d/l f=1-e-d/l d 為蒸發(fā)分子行進(jìn)的距離 如果平均自由程=蒸發(fā)源到基片的距離即d=l時(shí),f=63%; 平均自由程增加10倍,f= ..
2011-09-05 22:21
離子鍍的優(yōu)點(diǎn)及其用途
[光學(xué)技術(shù)]
離子鍍是真空熱蒸發(fā)和濺射兩種技術(shù)結(jié)合而發(fā)展起來(lái)的一種新工藝。
2011-09-05 22:18
鍍膜主要工藝因素簡(jiǎn)介
[光學(xué)技術(shù)]
鍍膜主要工藝因素如下: 1.基板處理;包括拋光、清潔、離子轟擊; 2.制備參數(shù);包括基板溫度、蒸發(fā)速率、真空度; 3.蒸汽入射角; 4.老化處理
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